Pengaruh Tekanan Dan Komposisi Massa Pereaksi II-VI Terhadap Penumbuhan Lapisan Tipis ZnO Dengan Metode MOCVD

Abstract

Dalam penelitian ini telah berhasil dikaji dalam bentuk pemodelan dan eksperimen pengaruh tekanan dan komposisi massa pereaksi II-VI terhadap penumbuhan lapisan tipis ZnO dengan metode Metalorganic chemical vapor deposition (MOCVD) menggunakan untuk pertama kalinya gas sistem pereaksi DMZn/H2O.
Hasil dari pemodelan dan eksperimen menunjukkan kesesuaian yang baik. Dari analisa laju penumbuhan lapisan tipis ZnO terhadap tekanan deposisi didapatkan bahwa laju penumbuhan meningkat secara eksponensial, sedangkan terhadap komposisi massa pereaksi II-VI, laju penumbuhan cenderung menjadi saturasi di atas nilai stoichiometri.